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The dehydroxylation behavior of homoionic cv-montmorillonits has changed after thermal treatment

Abstract:


Während der Dehydroxylierung von cis-vacanten Montmorilloniten wandern die Al 3+-Ionen der Oktaederschicht von Transpositionen auf freie cis-Plätze (Drits et al. 1995), so daß rehydroxylierte Proben im allgemeinen das charakteristische Dehydroxylierungsverhalten trans-vacanter Montmorillonite zeigen. Es ist jedoch bekannt, daß kleine Zwischenschichtionen (Li +, Cu +, Zn 2+) bereits weit unterhalb der Dehydroxylierungstemperatur auf freie Oktaederplätze wandern (Hofmann-Klemen-Effekt). Größere Zwischenschichtionen (Na +, Ca 2+, Sr 2+) wiederum versinken in den hexagonalen Löchern der Tetraederschichten.

Die vorliegenden Ergebnisse zeigen den Einfluß der Wanderung der Zwischenschichtionen des cis-vacanten Ausgangsmaterials auf das Dehydroxylierungsverhalten, die Kationenaustauschkapazität und die austauschbaren Ionen des rehydroxylierten Materials.

Authors:

Emmerich, Katja and Kahr, Günter

Index Terms:

Clay; ClayGroup; dehydroxylation; rehydroxylation; montmorillonite

Further Information:

Date published: 1998